工艺扇图案_工艺世界-上海可寐寐科技有限公司

日本 DNP 实现 2nm 工艺光掩模图案化,出样 High NA 兼容光掩模IT之家12 月27 日消息，DNP 大日本印刷当地时间本月12 日宣布，成功在其光掩模制品上绘制了支持2nm 及以下EUV 工艺的精细光掩模图案；同时该企业还完成了支持High NA EUV 光刻的光掩模的初步评估并已向生态合作伙伴出样。IT之家注：在现代光刻系统中，光掩模上的“大图案”好了吧！

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...电路制造方法及其制造系统专利,能够产生用于掩模工艺的一掩模图案上述复合光刻计算模型用以模拟一晶圆图案；使用一测量的掩模图像校正上述掩模模型；使用一测量的晶圆数据及校正后的上述掩模模型校正上述复合光刻计算模型；以及使用校正后的上述复合光刻计算模型对一集成电路图案执行一光学邻近校正(OPC)程序，从而产生用于掩模工艺的一掩模还有呢？

合肥河钢新材料取得一种印刷立体图案的辊涂机以及印刷工艺专利金融界2024年11月21日消息，国家知识产权局信息显示，合肥河钢新材料科技有限公司取得一项名为“一种印刷立体图案的辊涂机以及印刷工艺”的专利，授权公告号CN 115352203 B,申请日期为2022年9月。

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...中实现纳米晶复合材料的制备以及图案化,降低制备工艺的难度和成本涉及纳米晶技术领域，能够在空气中实现纳米晶复合材料的制备以及图案化，降低制备工艺的难度和成本。所述纳米晶复合材料的组分包括纳米晶颗粒和含有双吖丙啶基团的有机光敏分子，所述有机光敏分子的单线态卡宾的吉布斯自由能与三线态卡宾的吉布斯自由能之差小于40kJ/mol。本后面会介绍。

...面料处理工艺专利,避免面料在压印过程中因褶皱导致图案压印不完整金融界2024年11月5日消息，国家知识产权局信息显示，吴江市鑫旺升丝绸有限公司申请一项名为“一种可变色仿真丝涤纶面料的处理工艺”的专还有呢？使得面料套设在凸台的外部，并且使得面料被绷紧，避免了面料出现褶皱，使得在压印的过程中，面料表面不会因为褶皱导致图案压印的不完整。

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Chanel杭州大秀,典雅与奢华的完美演绎工艺与现代设计理念，呈现了一场视觉与技艺交织的盛宴。该系列作品巧妙结合中国传统文化韵味与现代时尚元素，其中花鸟图案作为国画经典是什么。金色服饰犹如一扇扇金色屏风般耀眼夺目。除了经典的黑白配色外，本季还特别采用了鎏金色、桃色等多种源自中国传统色彩体系的颜色，这些是什么。

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...其加工工艺和应用专利,该专利技术能制作纹理尖锐、间距小的纹理图案所述工艺包括：将平面玻璃基材置入第一模具内进行纹理压制处理，得到具有表面纹理的2D玻璃；S2、将所述具有表面纹理的2D玻璃置入3D成型模具进行形状热弯处理，得到玻璃盖板。本公开的加工工艺具有良好的产能和良率，并且能制作纹理尖锐、间距小的纹理图案。本文源自金融界

...类共聚物相关专利,该专利用于图案化组合物可获得良好工艺窗口第一单体包括式(1)所示的单体，Ra 为氢原子或甲基，R1、R2、R3、R4 中至少两者为烷基；第二单体包括式(2)所示的单体，Rc 为氢原子或甲基，R8、R9 以及m 个R10 中至多一者为烷基，m 为1-5 的整数；式(1)、式(2)。该丙烯酸酯类共聚物用于图案化组合物可获得良好工艺窗口，有利于图案小发猫。

博物馆的铜镜,为什么从不让看正面?听听博物馆馆长是怎么说?制作工艺、图案纹饰以及象征意义，我们可以揭示古代铜镜所承载的文化艺术内涵。古代铜镜作为民族的瑰宝，其制作工艺、造型纹样和象征意义，无一不彰显了古人在艺术和工艺的卓越成就。通过了解铜镜的文化艺术内涵，我们可以更好地理解，古代文化的杰出成就和审美观念和精神追求等会说。

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三星申请半导体工艺专利,提高半导体器件的制造精度三星电子株式会社申请一项名为“校正用于半导体工艺的布局的方法、制造半导体器件的方法和布局校正系统“公开号CN117954443A,申请日期为2023年7月。专利摘要显示，一种校正用于半导体工艺的布局的方法，包括：接收包括用于半导体工艺的布局图案的设计布局，以形成半导体器后面会介绍。

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